AGCが長年培ってきたファインガラス・ファインケミカル・ファインセラミックスの技術・研究開発をもとに製造しました。日進月歩の半導体プロセスに適し、さまざまな光学部材などに使われている高純度・高品質・高機能ガラスです。
AGCでは高品質の合成石英材料を用い、超精密加工・研磨・洗浄技術をフル活用した研磨加工品の販売を行っております。
使用用途
- 半導体用フォトマスク基板
- 各種用途向けガラスウエハ （ディスプレイ用デバイス・高周波デバイス・MEMS・バイオ関連・導波路 など）
- ナノインプリント用テンプレート基板
- 光学部品 （レンズ材・窓材・プリズム材 など）
その他各種加工品（丸物・板材 など）
合成石英フォトマスク基板
半導体用フォトマスク基板は、6025サイズをメインに、4インチ～9インチのサイズにご対応可能です。またi線・KrFグレードに加え、ArFグレード、ArF液浸用グレードもございます。
表面粗さ： Ra ≦0.2nmのスーパーポリッシュ対応可能
表面欠陥： 0.15μm以上の表面不動欠陥0個保証可能（自動欠陥検査機使用）
平坦度： 6025サイズで、面内0.3μmまで保証可能
合成石英ガラスウエハ
最大、φ300mm（12インチ）サイズまで対応可能です。厚みは最薄、0.25mmまで取り扱っております。代表的な仕様は下記の通りです。さらに高精度な加工についてもご相談下さい。
| 対応サイズ | φ3″、4″、5″、6″、8″、12″ |
| 外形公差 | ±0.1～0.2mm |
| 厚み公差 | ±10～50μm |
| 表面粗さ | Ra≦0.2～5nm |
| 反り | ≦20～45μm |
| TTV | ≦3～10μm |