AGC旭硝子が長年培ってきたファインガラス・ファインケミカル・ファインセラミックスの技術・研究開発をもとに製造しました。日進月歩の半導体プロセスに適し、さまざまな光学部材などに使われている高純度・高品質・高機能ガラスです。

旭硝子では高品質の合成石英材料を用い、超精密加工・研磨・洗浄技術をフル活用した研磨加工品の販売を行っております。

使用用途

  • 半導体用フォトマスク基板
  • 各種用途向けガラスウエハ (ディスプレイ用デバイス・高周波デバイス・MEMS・バイオ関連・導波路 など)
  • ナノインプリント用テンプレート基板
  • 光学部品 (レンズ材・窓材・プリズム材 など)
  • その他各種加工品(丸物・板材 など)

合成石英フォトマスク基板

半導体用フォトマスク基板は、6025サイズをメインに、4インチ~9インチのサイズにご対応可能です。またi線・KrFグレードに加え、ArFグレード、ArF液浸用グレードもございます。

表面粗さ: Ra ≦0.2nmのスーパーポリッシュ対応可能
表面欠陥: 0.15μm以上の表面不動欠陥0個保証可能(自動欠陥検査機使用)
平坦度: 6025サイズで、面内0.3μmまで保証可能

合成石英ガラスウエハ

最大、φ300mm(12インチ)サイズまで対応可能です。厚みは最薄、0.25mmまで取り扱っております。代表的な仕様は下記の通りです。さらに高精度な加工についてもご相談下さい。

対応サイズ φ3″、4″、5″、6″、8″、12″
外形公差 ±0.1~0.2mm
厚み公差 ±10~50μm
表面粗さ Ra≦0.2~5nm
反り ≦20~45μm
TTV ≦3~10μm