光導波路

ポリマー導波路(PWG)・ガラス導波路(GWG)

PWGとGWGは以下の特長を持ちます。

  • 高透過率(Oバンド/Cバンド)
  • リフロー互換性/高出力レーザーへの耐久性
  • フォトリソグラフィによる細かいパターニング

ガラスコア / インターポーザ

微細孔付きガラス基板

薄板ガラス基板にご要望のパターンで、微細孔形成を実施します。先端半導体パッケージ向けの3D実装、チップレット、CPO基板、RFデバイス等、幅広い分野での使用が可能です。以下の特長を持ちます。

  • 広範なガラス組成と厚みに対応可能(0.1〜1.1mm、とそれ以上)
  • 反り制御の為の高弾性率、及び応力最適化の為のCTE調整可能
  • 狭ピッチ、微細TGV(≧50μm)の正確な形成が可能、より大きな貫通およびブラインドキャビティの形成も可能
  • 高アスペクト比(1.0mm厚で最大20:1)
  • パネル形式での生産(例: 510x515mm)

銅張積層板(CCL)

CCLは以下の特長を持ちます。

  • 超低損失(Df < 0.001)
  • 広い周波数・温度範囲における安定した誘電特性
  • プリプレグおよび積層構造

モールド離型フィルム

Fluon® ETFE FILM(アフレックス®)

Fluon® ETFE FILM(アフレックス®)は高性能なフッ素樹脂フィルムです。フッ素樹脂フィルムは、優れた透明性、防汚性、耐久性を示すため、世界中で使用されています。Fluon® ETFE FILM(アフレックス®)には以下の特徴があります。

  • 非粘着性
  • 耐熱性・耐薬品性
  • 光透過性、耐候性

電子用途向けシリカフィラー / 低誘電アンダーフィル

中空シリカ(HSシリーズ)、中実シリカ(HNPシリーズ)の2種類のフィラーがあります。

  • HSシリーズ: 低誘電率(低Dk)
  • HNPシリーズ: 低誘電正接(低Df)

上記のシリカフィラーを活用した、低誘電アンダーフィル材料も開発しています。