イオンアシスト蒸着法(IAD法)により、真空蒸着法やイオンプレーティング法と比較して緻密かつ高硬度な膜が実現できます。緻密なY2O3膜やY5O4F7膜を形成することで装置部材の長寿命化やお客様製品の歩留まり向上に貢献します。
使用用途
- エッチング装置の天板、側壁
- 成膜装置の天板、側壁
- ステージ・ヒーター部材
- のぞき窓
特徴
- イオンアシスト蒸着法(IAD法)により、緻密で高硬度な膜質を実現。部材の長寿命化とパーティクル低減でお客様製品の歩留まり向上に寄与します。
- 真空蒸着法やイオンプレーティング法では困難であった大面積の絶縁性基板・導電性基板への成膜も対応可能です(最大φ750mmまで対応可能)。
- 溶射法と比べ、約100倍以上の耐プラズマ特性を実現し、部材の長寿命化に貢献します。(※当社調べ)
過酷なプラズマ環境にて高耐用化・パーティクル発生低減に貢献
エッチング装置や各種成膜装置のチャンバーの各種部材へコーティングしてご使用いただいた場合、特にプラズマが発生する環境内で高耐用、パーティクル低減が期待できます。

イオンアシスト蒸着法(IAD法)とは?
一般的な溶射法と比べて気相合成法は高硬度・緻密な膜を成膜できますが、数ある気相合成法の中でもIAD法を採用することで、真空蒸着法やイオンプレーティング法では実現が難しかった、大面積の絶縁性基板や導電性基板への緻密な膜の成膜が可能となります。最大φ750mmサイズの大型基板への成膜も対応可能です。

装置部材の長寿命化とお客様の歩留まり向上に寄与
溶射法と比較して、原子レベルで成膜するため、高硬度で緻密な膜質を実現。耐プラズマ環境下において高い耐侵食性を持ち、装置部材の長寿命化やメンテナンスコストの低減に寄与します。 また緻密な膜を成膜できることからパーティクル低減にも繋がり、お客様の製造工程における歩留まり向上に貢献します。

