2018年02月05日経営リリース
EUV露光用フォトマスクブランクス供給体制を大幅増強
AGC旭硝子(旭硝子株式会社、本社:東京、社長:島村琢哉)は、EUV露光用フォトマスクブランクスの供給体制を、グループ会社であるAGCエレクトロニクス (本社:福島県郡山市、社長:落合克成)において、本年より大幅に増強することを決定しました。
電子機器の高機能・小型化が進むにつれ、半導体チップの計算処理の高速化、データの大容量化、高集積化が求められています。そのためには半導体チップの回路パターンを微細にする必要がありますが、現行の光リソグラフィ技術*注1では、「7nm世代」と呼ばれる半導体デバイスの微細なパターン形成は、理論上難しくなっています。この微細なパターン形成の最有力とされているのが、EUV*注2露光技術です。
AGCはEUV露光技術で用いられるフォトマスクブランクス(以下EUVマスクブランクス)の研究開発を、2003年に開始しました。AGCの保有するガラス材料技術、ガラス加工技術、コーティング技術などを統合し、現在では「ガラス材料」から「膜材料」までを一貫して手掛けることができる、世界で唯一のEUVマスクブランクスメーカーとなっています。今後主流になるEUV露光技術の拡大を見据え、EUVマスクブランクスの供給体制を、グループ会社であるAGCエレクトロニクス社において、本年より大幅に増強することを決定しました。
*注釈
1) 光リソグラフィ技術:KrF(フッ化クリプトン)やArF(フッ化アルゴン)光源を用いて、LSI回路パターンをシリコンウエハ等に転写するプロセスのこと。
2) EUV:波長13.5nmの極端紫外線のこと。
<ご参考>
■AGCエレクトロニクス社について■
社名 | AGCエレクトロニクス株式会社 |
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資本金 | 300百万円 |
代表 | 落合 克成 |
本社所在地 | 福島県 郡山市 |
従業員数 | 600名(2017年12月末現在) |
主な事業内容 | 半導体関連部材事業 光デバイス事業など |
■EUVマスクブランクスについて■
EUVマスクブランクスとは、低膨張ガラス基板の表面に複数の組成から成る膜を積層した、「フォトマスク」の原版です。回路の微細化に伴い、EUVマスクブランクスに対する
・非常に小さなサイズの欠陥を限りなくゼロに近づけること
・非常に高い平坦度であること
といった要求水準は、更に高くなっています。
- 本件に関するお問い合わせ先
- AGC旭硝子 広報・IR部長 玉城 和美
- 担当:北野
- TEL: 03-3218-5603
- E-mail: info-pr@agc.com