AGCが長年培ってきたファインガラス・ファインケミカル・ファインセラミックスの技術・研究開発をもとに製造しました。日進月歩の半導体プロセスに適し、さまざまな光学部材などに使われている高純度・高品質・高機能ガラスです。
使用用途
- 半導体露光用レンズ
- 液晶露光用レンズ
- 各種半導体製造・測定装置向け光学用途
- マイクロオプティクス (DOE, マイクロフルイディクス等)
- 高出力レーザー加工機用途
- UV-LED、Xeエキシマランプ
- 高周波デバイス
AQシリーズの製造方法と特長
AGCの合成石英ガラス AQシリーズは、VAD法（間接法）にて製造されております。VAD法によりSi-OH濃度の低減を実現し、それによって、下記のような特色のある合成石英ガラスをご提供可能です。
特徴
- i線からKrF, ArF, Xeエキシマランプといった200nmを切る深紫外から、赤外線に至る幅広い波長の光に対する高透過率*1
- 低コンパクション・レアファクション特性、低複屈折率*2
- およそ1000℃の高耐熱性*3
- 高エネルギーレーザーに対する優れた耐久性
- 通常ガラスの1/10以下の低熱膨張率
- 高均質性、超高純度、極低金属不純物含有
- 低OH基含有率
- 高耐薬品性
- 低誘電損失
- *Si-OHの電子遷移による深紫外線吸収、およびSi-OHの分子振動に由来する赤外線吸収が、それぞれ抑制されます。
- *Si-OHが低い硝材ではレアファクションが発生しません。またコンパクションおよび偏光誘起複屈折率も抑制されることがArFエキシマレーザー照射評価から確認されております。当社では、4kHz ArFエキシマレーザー装置などを用い、合成石英への長期にわたる照射実験を行っております。このような実験を通じて合成石英の光学特性挙動の解明、特性改善を継続的に行っており、豊富なデータ、知見を保有しています。
- *Si-OH濃度の低減によりSi-O-Si結合ネットワーク構造が強固となり、粘性が増大することによって耐熱性が向上します。
代表的諸特性
| 化学組成 | SiO2 | wt(%) | 100 |
|---|---|---|---|
| 熱的特性 | 熱膨張係数 | ppm/K (50～200℃) | 0.6 |
| 軟化点 | ℃ | 1,600 | |
| 徐冷点 | ℃ | 1,120 | |
| 歪点 | ℃ | 1,060 | |
| 光学的特性 | 屈折率 | nD | 1.46 |
| 化学的特性 | 耐酸性 | mg/cm2 | 0.000 |
| 耐アルカリ性 | mg/cm2 | 0.032 | |
| 機械的特性 | 密度 | g/cm3 | 2.20 |
| ヤング率 | GPa | 74 | |
| ヌープ硬度 | kg/mm2 | 540 | |
| 電気的特性 | 体積抵抗率 | log(Ω･cm) at 200℃ | 12.5 |
| 誘電率 | at 1MH,R.T. | 4.0 |
- データは参考値であり、保証値ではありません。
深紫外域での透過率
- データは参考値であり、保証値ではありません。
製品ラインナップ
SDS（安全データシート）ダウンロード合成石英ガラス基板
AGCでは高品質の合成石英材料を用い、超精密加工・研磨・洗浄技術をフル活用した研磨加工品の販売を行っております。
代表的な仕様は下記の通りです。さらに高精度な加工についてもご相談下さい。
| ウエハ | □基板 | |
|---|---|---|
| 対応サイズ | Φ2"、3"、4"、5"、6"、8"、12" | □4"、5"、6" |
| 外形公差 | ±0.05~0.3mm | ±0.05~0.5mm |
| 対応厚み | 0.2~3mm | 0.25~10mm |
| 厚み公差 | ±0.005~0.05mm | ±0.02~0.2mm |
| 表面粗さ(Ra) | 0.5~2nm | 0.2~2nm |
| 反り | 10~100µm | 0.5~100µm |
| TTV | 1~20µm | 5~20µm |