AGCが長年培ってきたファインガラス・ファインケミカル・ファインセラミックスの技術・研究開発をもとに製造しました。日進月歩の半導体プロセスに適し、さまざまな光学部材などに使われている高純度・高品質・高機能ガラスです。
使用用途
- 半導体露光用レンズ
- 液晶露光用レンズ
- フォトマスク基板
- 光学部材
- ガラスウェハ
AQシリーズの製造方法と特長
AGCの合成石英ガラス AQシリーズは、VAD法（間接法）にて製造されております。VAD法によりSi-OH濃度の低減を実現し、それによって、下記のような特色のある合成石英ガラスをご提供可能です。
特徴
- i線からKrF, ArF, Xeエキシマランプといった200nmを切る深紫外から、赤外線に至る幅広い波長の光に対する高透過率*1
- 低コンパクション・レアファクション特性、低複屈折率*2
- およそ1000℃の高耐熱性*3
- 高エネルギーレーザーに対する優れた耐久性
- 通常ガラスの1/10以下の低熱膨張率
- 高均質性、超高純度、極低金属不純物含有
- 低OH基含有率
- 高耐薬品性
- 低誘電損失
- *Si-OHの電子遷移による深紫外線吸収、およびSi-OHの分子振動に由来する赤外線吸収が、それぞれ抑制されます。
- *Si-OHが低い硝材ではレアファクションが発生しません。またコンパクションおよび偏光誘起複屈折率も抑制されることがArFエキシマレーザー照射評価から確認されております。当社では、4kHz ArFエキシマレーザー装置などを用い、合成石英への長期にわたる照射実験を行っております。このような実験を通じて合成石英の光学特性挙動の解明、特性改善を継続的に行っており、豊富なデータ、知見を保有しています。
- *Si-OH濃度の低減によりSi-O-Si結合ネットワーク構造が強固となり、粘性が増大することによって耐熱性が向上します。
代表的諸特性
| 化学組成 | SiO2 | wt(%) | 100 |
|---|---|---|---|
| 熱的特性 | 熱膨張係数 | ppm/K (50～200℃) | 0.6 |
| 軟化点 | ℃ | 1,600 | |
| 徐冷点 | ℃ | 1,120 | |
| 歪点 | ℃ | 1,060 | |
| 光学的特性 | 屈折率 | nD | 1.46 |
| 化学的特性 | 耐酸性 | mg/cm2 | 0.000 |
| 耐アルカリ性 | mg/cm2 | 0.032 | |
| 機械的特性 | 密度 | g/cm3 | 2.20 |
| ヤング率 | GPa | 74 | |
| ヌープ硬度 | kg/mm2 | 540 | |
| 電気的特性 | 体積抵抗率 | log(Ω･cm) at 200℃ | 12.5 |
| 誘電率 | at 1MH,R.T. | 4.0 |
- データは参考値であり、保証値ではありません。
最適波長
深紫外域での透過率
- データは参考値であり、保証値ではありません。
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